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大幅提升生产效率 有望革新芯片制造 美国实验室研发新型激光技术

最新 大幅提升生产效率 有望革新芯片制造 美国实验室研发新型激光技术

美国劳伦斯利弗莫尔国家实验室，LLNL，正在研发一种基于铥元素的拍瓦，petawatt，级激光技术，该技术有望取代当前极紫外光刻，EUV，工具中使用的二氧化碳激光器，并将光源效率提升约十倍，高能耗的EUV光刻系统当前，EUV光刻系统的能耗问题备受关注，以低数值孔径，Low，NA，和高数值孔径，High，NA，EUV光刻系统为例，其功耗...。

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2nm未量产已招大客户抢单 台积电制程优势不倒 曾轻视华为追赶能力

最新 2nm未量产已招大客户抢单 台积电制程优势不倒 曾轻视华为追赶能力

台积电董事长，华为永远追不上我们据国外媒体报道，在更先进制程芯片代工上，台积电现在遥遥领先，这也难怪他们会喊出华为永远追不上我们的言乱，台积电董事长刘德音公开表示，华为不可能追上台积电，报道中提到，台积电的2nm虽还未量产，但首批产能已为苹果所预定，按照苹果的规划，iPhone17Pro和17ProMax的芯片将采用台积电2nm制程...。

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