美国劳伦斯利弗莫尔国家实验室，LLNL，正在研发一种基于铥元素的拍瓦，petawatt，级激光技术，该技术有望取代当前极紫外光刻，EUV，工具中使用的二氧化碳激光器，并将光源效率提升约十倍，高能耗的EUV光刻系统当前，EUV光刻系统的能耗问题备受关注，以低数值孔径，Low，NA，和高数值孔径，High，NA，EUV光刻系统为例，其功耗...。

据悉，美国劳伦斯利弗莫尔国家实验室，LLNL，正在研发一种基于铥元素的拍瓦，petawatt，级激光技术，有望取代当前极紫外光刻，EUV，工具中使用的二氧化碳激光器，并将光源效率提升约十倍，这一突破可能为新一代超越EUV的光刻系统铺平道路，从而以更快的速度和更低的能耗制造芯片，当前，EUV光刻系统的能耗问题备受关注，以低数值孔径，Lo...。

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引言美国劳伦斯利弗莫尔国家实验室，LLNL，正在研发一种基于铥元素的拍瓦级，petawatt，激光技术，有望取代当前极紫外光刻，EUV，工具中使用的二氧化碳激光器，并将光源效率提升约十倍，这一突破可能为新一代超越EUV的光刻系统铺平道路，从而以更快的速度和更低的能耗制造芯片，EUV光刻的能源挑战当前，EUV光刻系统的能耗问题备受关注，...。