
最新 大幅提升生产效率 有望革新芯片制造 美国实验室研发新型激光技术
美国劳伦斯利弗莫尔国家实验室,LLNL,正在研发一种基于铥元素的拍瓦,petawatt,级激光技术,该技术有望取代当前极紫外光刻,EUV,工具中使用的二氧化碳激光器,并将光源效率提升约十倍,高能耗的EUV光刻系统当前,EUV光刻系统的能耗问题备受关注,以低数值孔径,Low,NA,和高数值孔径,High,NA,EUV光刻系统为例,其功耗...。
美国劳伦斯利弗莫尔国家实验室,LLNL,正在研发一种基于铥元素的拍瓦,petawatt,级激光技术,该技术有望取代当前极紫外光刻,EUV,工具中使用的二氧化碳激光器,并将光源效率提升约十倍,高能耗的EUV光刻系统当前,EUV光刻系统的能耗问题备受关注,以低数值孔径,Low,NA,和高数值孔径,High,NA,EUV光刻系统为例,其功耗...。
据悉,美国劳伦斯利弗莫尔国家实验室,LLNL,正在研发一种基于铥元素的拍瓦,petawatt,级激光技术,有望取代当前极紫外光刻,EUV,工具中使用的二氧化碳激光器,并将光源效率提升约十倍,这一突破可能为新一代超越EUV的光刻系统铺平道路,从而以更快的速度和更低的能耗制造芯片,当前,EUV光刻系统的能耗问题备受关注,以低数值孔径,Lo...。
body,font,family,Arial,Helvetica,sans,serif,font,size,14px,line,height,1.5,color,333,h1,font,size,24px,margin,bottom,16px,h2,font,size,18px,margin,bottom,12px,p,marg...。
引言美国劳伦斯利弗莫尔国家实验室,LLNL,正在研发一种基于铥元素的拍瓦级,petawatt,激光技术,有望取代当前极紫外光刻,EUV,工具中使用的二氧化碳激光器,并将光源效率提升约十倍,这一突破可能为新一代超越EUV的光刻系统铺平道路,从而以更快的速度和更低的能耗制造芯片,EUV光刻的能源挑战当前,EUV光刻系统的能耗问题备受关注,...。
想象一下一个比人类大脑快10亿倍的,超级大脑,,这将是怎样的景象,如今,这一科幻般的场景早已成为了现实,来自香港中文大学、中国科学院物理研究所等机构科学家,成功开发出了一种基于,激光,的人工神经元,激光人工神经元的突破性进展这项突破性发现发表在,Optica,期刊上,该研究团队首次开发了一种基于芯片的量子点激光器,可以完全模仿真实神经...。