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但非美工艺制造彰显中国创新突破 与国外先进水平差距显著 国产光刻机

最新 但非美工艺制造彰显中国创新突破 与国外先进水平差距显著 国产光刻机

骄傲国产光刻机是芯片制造的核心设备，没有它，高性能手机、电脑等电子产品都将难以生产，国产光刻机的研发成功标志着中国在关键技术领域的重大突破，是一件值得骄傲的事情，遗憾也有专家指出，国产光刻机目前的技术水平还落后于国外先进水平约20年，这一差距让人感到遗憾，也暴露了我国在核心技术领域与国际先进水平之间的差距，20年差距的本质沈逸教授所说...。

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非美工艺制造 复旦大学教授高度评价国产光刻机 超越外国20年前水平

最新 非美工艺制造 复旦大学教授高度评价国产光刻机 超越外国20年前水平

今天，我们来聊聊一个既让人骄傲又让人遗憾的话题——国产光刻机，骄傲的理由光刻机是芯片制造的核心设备，没有它，那些高精尖的手机、电脑都将无从谈起，因此，国产光刻机的研发成功，无疑是值得我们骄傲的，遗憾的缘由遗憾的是，据复旦大学沈逸教授透露，国产光刻机的技术水平目前相当于国外10年、20年前的水平，这个消息一出，不禁让人心生疑虑，我们辛辛...。

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