非美工艺制造 复旦大学教授高度评价国产光刻机 超越外国20年前水平

今天，我们来聊聊一个既让人骄傲又让人遗憾的话题——国产光刻机。

骄傲的理由

光刻机是芯片制造的核心设备，没有它，那些高精尖的手机、电脑都将无从谈起。因此，国产光刻机的研发成功，无疑是值得我们骄傲的。

遗憾的缘由

遗憾的是，据复旦大学沈逸教授透露，国产光刻机的技术水平目前相当于国外10年、20年前的水平。这个消息一出，不禁让人心生疑虑，我们辛辛苦苦研制出的设备，为何会落后这么多？

代差的意义

中国工程师的坚韧

但是，中国工程师以聪明和坚韧闻名，他们凭着一股不服输的劲头，攻克了一个又一个难关。从氟化氪到氟化氩深紫外光刻机，我们已经实现了28nm工艺的量产。虽然与ASML的EUV技术还有不小的差距，但我们已经打通了这条技术之路！

ASML的软肋

说到ASML，很多人认为它不可战胜，但实际上它也有软肋。ASML光刻机的强大，很大程度上依赖于全球供应链的支持。如果国际局势发生变化，它的优势可能就会缩水。反观我们的国产光刻机，虽然技术还有待提高，但胜在自主可控，我们不用看别人的脸色行事，也不用担心被卡脖子。

自研能力的重要性

在中美科技博弈的大背景下，这种自研能力就是我们最大的底气！而且，国产光刻机的研发并不仅仅是为了追赶ASML，我们的最终目标是构建完整的芯片制造生态链，从设备到材料，从技术到生产，我们都要一步步完善自己的产业链。这就像建房子，地基要打牢，框架要搭好，这样建成的房子才能又高又稳。

EUV技术的终极目标

说到未来，光刻机的终极目标肯定是EUV技术，只有突破了这一点，我们才能真正站在世界的巅峰。虽然目前国产设备还在干式光刻向浸入式光刻过渡的阶段，但业内普遍认为，未来3-5年内，我们有望在浸入式技术上实现突破。这就像登山，眼前的浸入式技术是我们攀登途中的一处营地，而真正的珠峰是2nm甚至更先进的芯片制造技术。我们必须稳扎稳打，才能最终登顶。

进步的实质

因此，不要只盯着国产光刻机和ASML之间的差距，我们的进步是实打实的。这不仅仅是设备的升级，更是中国芯片产业链的一次重塑，它让我们看到了未来的可能性，也让我们更加明白研发核心技术的重要性。说不定在不久的将来，当28nm甚至更先进的国产光刻机问世时，这个20年的差距就会成为历史。到时候，我们也能够自豪地说：这就是我们中国芯片产业的逆袭！

结语

国产光刻机的逆袭之路才刚刚开始，虽然前路漫漫且充满挑战，但我们有信心也有决心一路走下去。相信未来的国产光刻机，一定能够成为世界科技舞台上的一颗耀眼的明珠！