首页 > 科技资讯 > 正文 光刻机技术迎来曙光 EUV 哈工大取得突破性进展!13.5nm极紫外光源研制成功 科技资讯 2025-01-04 09:28:58 浏览 次 突破 技术 哈工大 中国 芯片 光刻机 nm 芯片 光源 反射镜 制造 技术 光源 电路图 反射镜 本文版权声明本文内容由互联网用户自发贡献,该文观点仅代表作者本人。本站仅提供信息存储空间服务,不拥有所有权,不承担相关法律责任。如发现本站有涉嫌抄袭侵权/违法违规的内容,请联系本站客服,一经查实,本站将立刻删除。 上一篇百度极越濒临倒闭20亿欠款让供应商叫苦不迭 下一篇技术创新缺失国产AI眼镜发布潮期货产品横行
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